Силицид вольфрама

Силицид вольфрама WSi2 применяется в качестве электрошокового материала в микроэлектронике, шунтировании поликремниевых проводов, антиокислительных покрытиях и резистивных покрытиях проводов.Силицид вольфрама применяется в качестве контактного материала в микроэлектронике, с удельным сопротивлением 60-80мкОмсм.Образуется при температуре 1000°С.Обычно его используют в качестве шунта для поликремниевых линий для увеличения его проводимости и увеличения скорости сигнала.Слой силицида вольфрама можно приготовить химическим осаждением из паровой фазы, например осаждением из паровой фазы.В качестве исходного газа используйте моносилан или дихлорсилан и гексафторид вольфрама.Осажденная пленка нестехиометрична и требует отжига для преобразования в более проводящую стехиометрическую форму.

Силицид вольфрама может заменить более раннюю вольфрамовую пленку.Силицид вольфрама также используется в качестве барьерного слоя между кремнием и другими металлами.

Силицид вольфрама также очень ценен в микроэлектромеханических системах, среди которых силицид вольфрама в основном используется в качестве тонкой пленки для изготовления микросхем.Для этого пленку силицида вольфрама можно подвергнуть плазменному травлению с использованием, например, силицида.

Компания Rich Special Materials специализируется на производстве мишеней для распыления и может производить материалы для распыления силицида вольфрама в соответствии со спецификациями клиентов.Для получения более подробной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами.