По поводу применения и принципа технологии распыления мишеней некоторые клиенты консультировались с RSM, теперь по этой проблеме, которая больше всего беспокоит, технические эксперты делятся некоторыми конкретными соответствующими знаниями.
Целевое применение распыления:
Заряженные частицы (например, ионы аргона) бомбардируют твердую поверхность, заставляя поверхностные частицы, такие как атомы, молекулы или пучки, покидать поверхность объекта. Это явление называется «распылением».При нанесении покрытия магнетронным напылением положительные ионы, генерируемые при ионизации аргона, обычно используются для бомбардировки твердого тела (мишени), а распыленные нейтральные атомы осаждаются на подложке (заготовке) с образованием слоя пленки.Покрытие магнетронного напыления имеет две характеристики: «низкотемпературное» и «быстрое».
Принцип магнетронного распыления:
Между напыленным полюсом мишени (катодом) и анодом добавляются ортогональное магнитное и электрическое поле, а камера высокого вакуума заполняется необходимым инертным газом (обычно газом Ar).Постоянный магнит формирует магнитное поле напряженностью 250-350 Гаусс на поверхности материала мишени и образует ортогональное электромагнитное поле с электрическим полем высокого напряжения.
Под действием электрического поля газ Ar ионизируется на положительные ионы и электроны, и на мишени возникает определенное отрицательное высокое давление, поэтому на электроны, испускаемые из полюса мишени, влияет магнитное поле и вероятность ионизации рабочей газ увеличивается.Около катода образуется плазма высокой плотности, и ионы Ar под действием силы Лоренца ускоряются к поверхности мишени и бомбардируют поверхность мишени с высокой скоростью, так что распыленные на мишени атомы вылетают из поверхности мишени с высокой скоростью. кинетическая энергия и летят к подложке, образуя пленку по принципу преобразования импульса.
Магнетронное распыление обычно разделяют на два вида: распыление постоянным током и радиочастотное распыление.Принцип оборудования для распыления постоянным током прост, а скорость распыления металла высокая.Использование радиочастотного распыления более обширно, помимо распыления проводящих материалов, а также распыления непроводящих материалов, а также реактивного распыления подготовки оксидов, нитридов и карбидов и других составных материалов.Если частота радиочастотного излучения увеличивается, происходит микроволновое плазменное распыление.В настоящее время широко используется микроволновое плазменное распыление типа электронного циклотронного резонанса (ЭЦР).
Время публикации: 01 августа 2022 г.