Целевой материал, используемый в индустрии хранения данных, требует высокой чистоты, а примеси и поры должны быть сведены к минимуму, чтобы избежать образования частиц примесей во время распыления.Целевой материал, используемый для получения высококачественной продукции, требует, чтобы размер его кристаллических частиц был небольшим и однородным и не имел кристаллической ориентации.Ниже давайте посмотрим на требования индустрии оптических накопителей к целевому материалу?
1. Чистота
В практическом применении чистота целевых материалов варьируется в зависимости от различных отраслей и требований.Однако в целом, чем выше чистота целевого материала, тем лучше характеристики напыленной пленки.Например, в индустрии оптических накопителей чистота целевого материала должна быть выше 3N5 или 4N.
2. Содержание примесей
Материал мишени служит катодным источником при распылении, а примеси в твердом теле, а также пары кислорода и воды в порах являются основными источниками загрязнения при нанесении тонких пленок.Кроме того, существуют особые требования к мишеням различного назначения.Если взять в качестве примера индустрию оптических накопителей, то содержание примесей в мишенях для распыления должно контролироваться на очень низком уровне, чтобы гарантировать качество покрытия.
3. Размер зерна и его распределение по размерам.
Обычно целевой материал имеет поликристаллическую структуру с размерами зерен от микрометров до миллиметров.Для мишеней одинакового состава скорость распыления мелкозернистых мишеней выше, чем у крупнозернистых.Для мишеней с меньшими различиями в размерах зерен толщина осаждаемой пленки также будет более однородной.
4. Компактность
Чтобы уменьшить пористость твердого материала мишени и улучшить характеристики пленки, обычно требуется, чтобы материал мишени для распыления имел высокую плотность.Плотность целевого материала в основном зависит от процесса приготовления.Целевой материал, изготовленный методом плавления и литья, может гарантировать отсутствие пор внутри целевого материала и очень высокую плотность.
Время публикации: 18 июля 2023 г.